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        中科院新疆理化所

        發布時間:2020-04-16  瀏覽次數:495

        中國科學院新疆理化技術研究所引進了我公司設計生產的高真空CVD系統,研究所王老師對我們的產品和服務給予了充分的肯定!


        CVD系統HR1200-110ITD3F

        設備簡介:

        化學氣相沉積(CVD)是指化學氣體或蒸汽在基質表面反應合成涂層或納米材料的方法,是半導體工業中應用最為廣泛的用來沉積薄膜材料的技術,包括大范圍的絕緣材料,以及大多數金屬材料和金屬合金材料。為此我們研發成套的CVD鍍膜系統,適用于各大高校材料實驗室、科研院所、環??茖W等領域;


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